HI84100采用滴定分析方法快速测量残留二氧化硫和总二氧化硫含量。在食品加工领域， |
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二氧化硫的主要应用是进行防腐。以葡萄酒为例，当有氧存在时将zui先与二氧化硫发 |
生反映，起到抗氧化的作用，进而保证酵母菌的正常发酵，并抑制其他杂菌。 |
| * 基于微电脑控制技术，集滴定分析，磁力搅拌和电极测量于一体。
* 性能优良操作简单，可直接显示测量结果。
* 人性化设计，具有稳定标识和校准信息等显示功能。
* 残留二氧化硫浓度取决于三个因素：总添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证抗氧化和净化杂菌的作用。
* 当残留浓度超过2.0ppm时，即被人感知到，因此以此浓度作为上限值。 |
| 技术参数 |
测量项目 |
二氧化硫 |
量程 |
0 to 400 ppm of SO2 |
解析度 |
1 ppm |
精度 |
读数的5% |
测量方法 |
滴定法 |
测量原理 |
等电位氧化还原滴定法 |
取样量 |
50 mL |
ORP电极 |
HI 3148B |
泵流量 |
0.5 mL/min |
搅拌速率 |
1500 rpm |
适用环境 |
0 to 50°C （32 to 122°F）; max 95% RH无冷凝 |
供电方式 |
220V/60 Hz; 10VA |
尺寸重量 |
208 x 214 x 163 mm；2200 g |
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